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PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機是針對于高校，科學研究所和企業(yè)實驗室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實驗平臺。針對用戶不同的需求，我們提供不同功能附件，在獲得常規(guī)性能的同時，擁有表面鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學反應，粉體等離子體處理等多種能力。
PLUTO-E100型科研型等離子體干法刻蝕（ICP/CCP）系統(tǒng)是一款低成本，適合于科研機構實驗室的桌面型科研設備，整套系統(tǒng)的目的是在4寸以及以下的樣品上進行干法刻蝕。該系統(tǒng)包括反應腔室，真空系統(tǒng)，RF射頻系統(tǒng)，反應氣路系統(tǒng)，電器控制，軟件程序等幾個子系統(tǒng)。
CCP等離子刻蝕機/科研型介質刻蝕機是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設計的高性價比CCP等離子介質刻蝕機系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng)，作為一個多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設計與靈活的配置方案，獲得高性能CCP刻蝕工藝。該設備結構緊湊占地面積小， 專業(yè)的機械設計與優(yōu)化的自動化操作軟件使察 該設備操作簡便、安全，且工藝穩(wěn)定重復性良好。
PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機設備是一種用于微納米加工的關鍵設備，主要用于半導體、光電子、納米材料等領域的微細加工和表面處理。等離子刻蝕技術是半導體制造中的關鍵步驟，它在制備微電子器件、光電子器件、MEMS、太陽能電池等多種電子產(chǎn)品中發(fā)揮著重要作用。
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